第一个汇报的是罗华。

他把笔记本连上多媒体一体机，屏幕上出现了计算光刻模板的设计进展。

四版迭代的对比图一字排开，每一版的单元几何图案都不一样，从最开始的简单矩形结构到现在的复杂锯齿形，优化的方向清晰可见。

“目前计算光刻模板已经迭代到第四版了，第一版的全波仿真结果在目标频段中端的相位匹配度只有百分之八十七，第二版改进之后提升到百分之九十三，第三版达到了百分之九十六点五，第四版是我们昨晚刚跑完的，目标频段内的相位匹配度已经达到了百分之九十八点七。”

罗华说这话的时候语气很平稳，底下的几个人都在微微点头。

百分之九十八点七的相位匹配度，放在正常的科研课题里已经是可以结题的水平了。

接着第二个是赵雪晴。

她把磁控溅射和原子层沉积的工艺参数汇总表投在屏幕上，每一批薄膜的关键指标都标得清清楚楚的。

“镀膜工艺这边总共是跑了三批。

第一批的界面附着力不达标，金属介质界面出现了纳米级的剥离，第二批膜厚均匀性超了正负零点八个纳米，第三批在优化了溅射功率和基底温度之后，均匀性控制在正负零点三纳米以内，折射率偏差在目标范围内。”

她顿了一下，补充道：“目前第三批薄膜正在进行超表面天线阵列的集成测试，预计今晚就能出第一组耦合效率数据。”

接下来就是朱旭了。

“纳米压印母版今天中午已经完成写入了，正在进行压印工艺调试，第一版母版因为电压波动报废了，这是第二版，目前压印模具的几何精度在五纳米以内，完全满足预定的指标。”

他停顿了一下，补充道：“但是电子束光刻的写入时间太长了，一块母版全写完需要十三个小时以上，如果后续需要修改模板图案，重新写入的时间成本会非常高。

这个是目前最大的瓶颈了。”

接着是温和林和邵欢的检测模块汇报，还有柯东的电磁紧缩场汇报。

每个人的进展都算不上差，甚至可以说，按正常科研进度来看，他们的完成度已经非常惊人了。